ہائی نائٹروجن آسٹینیٹک سٹینلیس سٹیل کے سنکنرن رویے پر مطالعہ
ہائی نائٹروجن آسٹینیٹک سٹینلیس سٹیل بہترین مکینیکل خصوصیات اور سنکنرن مزاحمت کا حامل ہے، اور جراحی کے آلات، انسانی امپلانٹ مواد، اعلی مقناطیسی میدان کا پتہ لگانے کے آلات، زیورات اور باورچی خانے کے برتنوں کی تیاری میں منفرد فوائد رکھتا ہے۔ Ni austenitic سٹینلیس سٹیل میں سب سے زیادہ استعمال ہونے والا ملاوٹ کرنے والا عنصر ہے، لیکن وسائل کی بچت، مقناطیسیت اور انسانی الرجی سے بچنے کے پہلوؤں سے، آسٹینیٹک سٹینلیس سٹیل میں Ni کو جہاں تک ممکن ہو کم یا ہٹا دیا جانا چاہیے۔ اس مقالے میں، یکساں سنکنرن، انٹر گرانولر سنکنرن، شگاف سنکنرن، نکیل لیس ہائی نائٹروجن اور ہائی مینگنیج آسٹینیٹک سٹینلیس سٹیل (HNSSs) کے دوبارہ گزرنے کے رویے کا مطالعہ کیا گیا تھا، اور سردی کی خرابی اور سنسنی خیز فلموں کی ساخت پر اثرات کا مطالعہ کیا گیا تھا۔ تجارتی 316L سٹینلیس سٹیل (316LSS) کے مقابلے میں HNSSSs کی مزاحمت کی جانچ کی گئی۔ متعلقہ سنکنرن میکانزم پر تبادلہ خیال کیا گیا ہے۔
تجرباتی مواد 3 HNSSs (A, B اور C) اور تجارتی 316LSS تھے۔ مواد حل علاج کی طرف سے تیار کیا جاتا ہے. کچھ ٹھوس حل HNSSs نمونوں کی سرد اخترتی بالترتیب 8%، 30%، 49% اور 60% تھی۔ کچھ HNSSs اور 316LSS نمونے 2h کے لیے 650 ڈگری پر حساس تھے۔ میٹالوگرافک نمونے کو 1.5μm تک پالش کرنے کے بعد، اسے 10% (ماس فریکشن) آکسالک ایسڈ محلول میں الیکٹرولائیٹک طور پر اینچ کیا گیا، ایچنگ وولٹیج 12V تھا، اور وقت 90s تھا۔
ASTM G31 معیار کے مطابق یکساں سنکنرن ٹیسٹ؛ ASTM A-262 پرائس بی معیار کے مطابق انٹرگرانولر سنکنرن ٹیسٹ؛ بالترتیب GB/T 10127-2002 اور GB/T 17897-1999 کے معیارات کے مطابق سیون سنکنرن اور پٹنگ سنکنرن کئے جاتے ہیں۔ ٹرانسمیشن الیکٹران مائیکروسکوپی کے ذریعے مشاہدہ کیے گئے نمونوں کو میکانکی طور پر 3mm ڈسکس میں پالش کیا گیا اور دوہرے-اسپرے الیکٹرولیسس کے ذریعے مشاہدہ شدہ نمونوں کو پتلا کیا گیا۔ آپریٹنگ وولٹیج 20V تھا اور درجہ حرارت -30 ڈگری تھا۔ SEM اور EDS کے ذریعہ نمونے کی سطح کی سنکنرن شکل کا مشاہدہ اور تجزیہ کیا گیا۔ حساس نمونے کے تیز مرحلے کا تجزیہ ایکس رے ڈفریکٹومیٹر کے ذریعے کیا گیا۔ غیر فعال فلم کی کیمیائی ساخت کا تجزیہ ایکس رے فوٹو الیکٹران سپیکٹروسکوپی (XPS) کے ذریعے کیا گیا۔ XPSPEAK4.1 سافٹ ویئر کا استعمال XPS ڈیٹا کے پیچھے اور نیچے کی کٹوتی، سب پییک فٹنگ پروسیسنگ، چوٹی کیلیبریشن اور انٹیگرل ایریا کے حساب کتاب کے لیے کیا جاتا ہے۔
نتائج سے پتہ چلتا ہے کہ ٹھوس محلول HNSSs کی یکساں سنکنرن مزاحمت اور intergranular سنکنرن مزاحمت ظاہر ہے کہ 316LSS سے کمتر ہے۔ حساسیت کا علاج اسٹیل کی یکساں سنکنرن مزاحمت کو متاثر نہیں کرتا ہے، لیکن یہ انٹرگرانولر سنکنرن مزاحمت کو تیزی سے کمزور کرنے کا باعث بنتا ہے، خاص طور پر نان-مو اسٹیل کے لیے۔ ٹھوس محلول HNSSs کی گیپ سنکنرن اور پٹنگ مزاحمت 316LSS سے بہتر ہے، خاص طور پر Mo سٹیل کے۔ حساسیت خلا کو سنکنرن اور پٹنگ مزاحمت کو کمزور کرنے کا باعث بنتی ہے۔ کولڈ ڈیفارمیشن بڑی تعداد میں خوردبینی نقائص کو متعارف کراتی ہے، جس کے نتیجے میں پاسیویشن فلم کا پتلا ہونا، فلم میں مستحکم آکسائیڈز کی کمی، اور ناقص تحفظ، جو Cl- پر مشتمل محلول میں HNSSs کی پٹنگ مزاحمت کو کم کرتا ہے، لیکن اس کی دوبارہ-پاسیویشن کارکردگی کو بہتر بناتا ہے۔ χ مرحلے کو حساسیت کی طرف سے تیز کیا گیا تھا، اور HNSSs کی سنکنرن مزاحمت میں کمی آئی، اور repassivation کی کارکردگی خراب ہوئی، اور سردی کے اضافے کے ساتھ اخترتی زیادہ اہم تھی۔
