اعلی نائٹروجن آسٹینیٹک سٹینلیس سٹیل کے سنکنرن سلوک پر مطالعہ
ہائی نائٹروجن آسٹینیٹک سٹینلیس سٹیل میں عمدہ مکینیکل خصوصیات اور سنکنرن مزاحمت ہے ، اور سرجیکل ٹولز ، انسانی امپلانٹ مواد ، اعلی مقناطیسی فیلڈ کا پتہ لگانے کے آلات ، زیورات اور باورچی خانے کے برتنوں کی تیاری میں ان کے انوکھے فوائد ہیں۔ Ni آسٹینیٹک سٹینلیس سٹیل میں سب سے زیادہ عام طور پر استعمال ہونے والا الیئنگ عنصر ہے ، لیکن وسائل کی بچت کے پہلوؤں سے ، مقناطیسیت اور انسانی الرجی سے گریز کرتے ہوئے ، آسٹینیٹک سٹینلیس سٹیل میں موجود NI کو جہاں تک ممکن ہو کم یا ہٹا دیا جانا چاہئے۔ اس مقالے میں ، یکساں سنکنرن ، انٹرگرینولر سنکنرن ، کریوائس سنکنرن ، نیکلیس ہائی نائٹروجن اور اعلی مینگنیج کے آسٹینیٹک اسٹینلیس سٹیل (ایچ این ایس ایس) کے بارے میں اعلی نائٹروجن اور اعلی مینگنیج کے آسٹینیٹک اسٹین لیس اسٹیل (ایچ این ایس ایس) کے بارے میں ، اور مائکروپٹوریشن اور سنسنیشن کے اثرات ، اور سنسنیشن کے اثرات ، تجارتی 316L سٹینلیس سٹیل (316LSS) کے مقابلے میں HNSSS کی تحقیقات کی گئیں۔ متعلقہ سنکنرن کے طریقہ کار پر تبادلہ خیال کیا جاتا ہے۔
تجرباتی مواد 3 HNSSS (A ، B اور C) اور تجارتی 316LSS تھے۔ مواد حل کے علاج کے ذریعہ تیار کیا جاتا ہے۔ کچھ ٹھوس حل HNSSS نمونے کی سرد اخترتی بالترتیب 8 ٪ ، 30 ٪ ، 49 ٪ اور 60 ٪ تھی۔ کچھ HNSSS اور 316LSS نمونے 2H کے لئے 650 ڈگری پر حساس تھے۔ میٹالوگرافک نمونے کو 1.5μm پر پالش کرنے کے بعد ، یہ الیکٹرویلیٹک طور پر 10 ((بڑے پیمانے پر فریکشن) آکسالک ایسڈ حل میں کھڑا کیا گیا تھا ، اینچنگ وولٹیج 12V تھی ، اور وقت 90s تھا۔
ASTM G31 معیار کے مطابق یکساں سنکنرن ٹیسٹ ؛ ASTM A - 262 262 PRAICE B معیار کے مطابق انٹرگرینولر سنکنرن ٹیسٹ ؛ سیون سنکنرن اور پٹنگ سنکنرن بالترتیب جی بی/ٹی 10127 - 2002 اور جی بی/ٹی 17897 - 1999 کے معیارات کے مطابق انجام دیئے جاتے ہیں۔ ٹرانسمیشن الیکٹران مائکروسکوپی کے ذریعہ مشاہدہ کردہ نمونے میکانکی طور پر 3 ملی میٹر ڈسکس میں پالش کیے گئے تھے اور مشاہدہ شدہ نمونوں کو ڈبل - اسپرے الیکٹرولیسس کے ذریعہ پتلا کردیا گیا تھا۔ آپریٹنگ وولٹیج 20V تھی اور درجہ حرارت -30 ڈگری تھا۔ نمونے کی سطح کی سنکنرن شکل کو SEM اور EDS کے ذریعہ مشاہدہ اور تجزیہ کیا گیا۔ حساس نمونے کے پہلے مرحلے کا تجزیہ ایکس رے ڈفریکٹومیٹر کے ذریعہ کیا گیا تھا۔ ایکس رے فوٹو الیکٹران اسپیکٹروسکوپی (ایکس پی ایس) کے ذریعہ گزرنے والی فلم کی کیمیائی ساخت کا تجزیہ کیا گیا۔ XPSPEAK4.1 سافٹ ویئر کا استعمال XPS ڈیٹا ، سب چوٹی فٹنگ پروسیسنگ ، چوٹی انشانکن اور لازمی علاقے کا حساب کتاب کے پیچھے اور نیچے کٹوتی کے لئے کیا جاتا ہے۔
نتائج سے پتہ چلتا ہے کہ ٹھوس حل HNSSS کی یکساں سنکنرن مزاحمت اور انٹرگرینولر سنکنرن مزاحمت واضح طور پر 316LSS سے کمتر ہے۔ حساسیت کا علاج اسٹیل کی یکساں سنکنرن مزاحمت کو متاثر نہیں کرتا ہے ، بلکہ خاص طور پر غیر - ایم او اسٹیل کے لئے ، انٹرگرینولر سنکنرن مزاحمت کو تیز کمزور کرنے کا باعث بنتا ہے۔ ٹھوس حل HNSSS کی گیپ سنکنرن اور چھپائی کے خلاف مزاحمت 316LSS ، خاص طور پر MO اسٹیل کے لوگوں سے بہتر ہے۔ حساسیت خلاء کی سنکنرن اور پتنگ مزاحمت کو کمزور کرنے کا باعث بنتی ہے۔ سرد اخترتی مائکروسکوپک نقائص کی ایک بڑی تعداد کو متعارف کراتی ہے ، جس کے نتیجے میں گزرنے والی فلم کو پتلا کرنا ، فلم میں مستحکم آکسائڈز میں کمی ، اور ناقص تحفظ کا نتیجہ ہوتا ہے ، جس سے کل - پر مشتمل حل میں HNSS کی چھت کی مزاحمت کو کم کیا جاتا ہے ، لیکن اس کی بحالی کی کارکردگی کو بہتر بناتا ہے۔ χ مرحلے کو حساسیت کے ذریعہ ختم کیا گیا تھا ، اور HNSSS کی سنکنرن مزاحمت میں کمی واقع ہوئی ، اور ریپاسیویشن کی کارکردگی خراب ہوگئی ، اور سردی میں اضافے کے ساتھ ہی اخترتی زیادہ اہم تھی۔
